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Applications of plasma processes to VLSI technology

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자료유형단행본
개인저자菅野卓雄, 1931-.,
김효근. ,
서명/저자사항Applications of plasma processes to VLSI technology / edited by Takuo Sugano ; translated by Hyo-Gun Kim.
발행사항New York : Wiley, 1985.
형태사항xiv, 394 p. : ill. ; 24 cm.
ISBN 0471869600
서지주기 Includes bibliographical references and index.
통일서명半導體プラズマプロセス技術.English
일반주제명 Semiconductors Etching.
Integrated circuits Very large scale integration Design and construction.
Plasma etching.
Vapor Plating.
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1 과학도서관/단행본실(2층)/ 621.395 H2362E 121087931 대출가능 간편대출 서비스 서가에 없는 책 찾기 모바일발송
2 과학도서관/단행본실(2층)/ 621.395 H2362E 121221211 대출가능 간편대출 서비스 서가에 없는 책 찾기 모바일발송

목차/초록

CONTENTS
INTRODUCTION : IMPORTANCE OF PLASMA PROCESSES IN SEMICONDUCTOR FABRICATION = 1
CHAPTER 1. PHYSICS OF PLASMA CHEMICAL REACTIONS(THEORY AND MEASUREMENTS) = 4
 1.1. How Chemical Reactions Are ...

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